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組織架構

              

 

               

 

                                     

                                                    總計畫與各子計畫在電漿診斷分析技術的整合概念圖

 

                                       

 

                                             總計畫與子計畫一、三、四在高功率脈衝鍍膜技術的整合概念圖

 

                   

計畫項目

預期執行內容

新穎高功率脈衝鍍膜電源設備(HIPIMS)與鍍膜系統開發與測試

完成測試德國MELEC公司的新穎疊加型HIPIMS電源系統的優化鍍膜參數。並協助總計畫與各子計畫進行鍍膜設備之電漿性質分析檢測。

開發國產直流電源設備

完成台灣自製的10~30KW直流電源供應器之電源與電漿穩定性與鍍膜製程測試,並協助推廣至產業界。

發展Al(Ga,In) 摻雜CoZnO 磁性薄膜材料

完成不同Co含量對ZnO薄膜之顯微結構、光及電性質的影響,並獲致高結晶性和高遷移率的CoZnO薄膜。

開發生醫領域之常壓電漿鍍膜設備與相關技術

完成設計電漿束與介質屏蔽放電(DBD)兩種不同常壓電漿產生裝置,並完成調控電漿的最佳化參數,應用於熱敏性高分子基材處理。

開發複合型高功率脈衝磁控濺鍍源與陰極電弧源鍍膜技術系統設備與鍍膜技術

完成工業量產型大面積矩形陰極電漿源設計開發、製作與系統整合,並獲得鍍膜製程參數對氮化鈦薄膜微結構、機械性質及電漿特性與靶材利用率之影響。

開發電磁控陰極電弧鍍膜系統設備與鍍膜技術

完成實驗級脈衝電磁控陰極電弧鍍膜系統的建置,以及脈衝電磁控陰極電漿源之研製與系統製程設計,與書緯科技公司共同建置硬質鍍膜設備雛形系統,並探討多元合金硬質鍍膜之機械性質,改善在高溫高磨耗精密切削加工性質。

發展彩色選擇性吸收薄膜TiNxOy材料系統

完成各種TiNxOy晶體之結晶型態以及TiNxOy薄膜微結構、機械性質等特性分析,與適當N/O比例與成份計量比。

開設鍍膜科技、真空技術與材料分析等相關課程

分別於五個大學開設有關鍍膜科技、真空技術與材料分析等9門課程,以完成人才培育。

成立先進物理鍍膜產業聯盟

將召集國內相關產業成立先進物理鍍膜產業聯盟,進行技術交流、技術轉移與人才培訓等工作。

 

              總體目標

              (1)開發數種先進物理鍍膜技術鍍膜系統設備先進鍍膜材料

              (2)培育鍍膜科技人才

              (3)成立「先進物理鍍膜技術聯盟」,協助廠商進行技術轉移人才培訓

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