Your browser does not support JavaScript!

 

薄膜發展組

       本中心提供薄膜與電漿技術之研發交流,核心技術包含ICP-CVDPE-CVD、濺鍍、蒸鍍、液態電漿、大氣電漿、電漿聚合等,技術服務包含:

 

1.功能性薄膜研發

 

2.鍍膜研發:

*透明導電薄膜:ITO,AZO,IZO

*P or N型之氧化物薄膜:NiO,Cu2O,WO3,TiO2,TiON,TaON,Ta2O5,MgO

*高硬度耐磨耗氮化物、碳氮化物奈米結構薄膜:AlCrN, TiAlN, CrCN, ZrCN, TiCrAlSiN, CrSiN, CrN, CrBN, CrTiBN, CrCN/ZrCN,CrBN/TiBN.

*高硬度透明薄膜:AlN.

*生醫薄膜:抗菌薄膜、促進細胞貼合有機/無機薄膜。

*太陽能光電薄膜:a:Si:H, mc:Si:H, CIGS, CZTS.

*半導體閘極氧化層薄膜:HfO2, ZrO2, Al2O3, Y2O3, Dy2O3, La2O3.

*抗沾黏硬質薄膜:AlCrN, CrSiCN.

 

3.電漿即時監控之鍍膜製程技術:

    *鋁、鋅、鉛合金鑄造模具之保護性薄膜:SiN, AlCrN, BN.