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設備儀器

本中心佔地320坪,共設立十間實驗室(先進物理鍍膜實驗室(Ⅰ)、先進化學鍍膜實驗室、先進物理鍍膜實驗室(Ⅱ)、薄膜與機械性質實驗室、先進電漿實驗室、光電檢測實驗室、產學製程實驗室、產學檢測實驗室、應用生醫薄膜實驗室及液態電漿實驗室) ,另有一間辦公室及一間大型會議室。

 

先進化學鍍膜實驗室

(Advanced Chemical Vapor Deposition Lab.)

高密度電漿輔助化學氣相沉積系統

(Inductively Coupled Plasma-Chemical Vapor Deposition, ICP-CVD)

電漿輔助化學氣相沉積系統

(Plasma Enhanced -Chemical Vapor Deposition,    PE-CVD)

 

先進物理鍍膜實驗室(Ⅰ)

(Advanced Physical Vapor Deposition Lab.Ⅰ)

連續式-物理氣相沉積系統

(In- Line Physical Vapor Deposition)

批次-物理氣相沉積系統

(Batch Type Physical Vapor Deposition)-

為多方位三維沈積系統

 

先進物理鍍膜實驗室(Ⅱ)

(Advanced Physical Vapor Deposition Lab.Ⅱ)

高功率脈衝磁控濺鍍系統 (High Power Impulse Magnetron Sputtering, HIPIMS)

 

薄膜與機械性質實驗室

(Thin Films & Mechanical Properties Testing Lab.)

薄膜刮痕儀(Scratch Tester)

磨耗試驗機(Tribometer)

薄膜衝擊試驗機(Thin Film Impact Tester)

 

先進電漿實驗室

(Advanced Plasma Lab.)

電漿聚合系統 (Plasma Polymerization System)

 

光電檢測實驗室

(Optoeletronic Measurement Lab.)

電化學量測儀

 (Photoelectrochemical Measuring System)

紫外光/可見光分光光譜儀

(UV-Visible Spectrophotometer)

大氣電漿處理系統 (Atmospheric Plasma Treatment System)

 

產學製程實驗室

(Industry Process Lab.)

離子輔助蒸鍍機

(Ion-Beam Assisted Deposition,IBAD)

反應式離子蝕刻機

(Reactive Ion Etcher, RIE)

蒸鍍系統

(Deposition System)

有機/無機複合鍍膜系統

(Organic-inorganic hybrid coating system)

 

產學檢測實驗室

(Industry-Testing Equipment Lab.)

3D列印(3D print)

靜電紡絲(Electro-spinning)

 

熱燈絲電漿輔助化學氣相沉積

(Hot filament plasma enhanced chemical vapor deposition, HF-PECVD)

 

液態電漿實驗室

(Solution Plasma Lab.)

液態電漿系統 (Solution Plasma System)

 

應用生醫薄膜實驗室

(Applied Biological Thin Films Lab.)

無菌操作台(Laminar Flow)

 

 

倒立式顯微鏡(Microscope)